快链头条 消息，7 月 1 日，据主流财经媒体 SEDaily 报道，三星电子正在开发利用量子计算机模拟半导体制造核心光刻（Photolithography）工艺的技术。这是一个旨在集结下一代信息技术、，推动半导体集成度和良率实现突破性提升的项目。

该项目由三星集团系统集成子公司三星 SDS 负责研发，并计划于今年下半年启动技术概念验证（PoC）。

据悉，三星 SDS 近期正在开发一种基于量子计算机的模拟算法，可对光刻工艺中的部分流程进行虚拟仿真。光刻工艺是利用光线在晶圆上绘制微细电路图案的关键步骤，相当于在蚀刻形成实际电路之前先完成「底稿」绘制，因此被视为决定半导体成品质量、集成度和制造良率的核心工艺之一。

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